5nm蚀刻机能不能蚀刻7nm晶元，28nm晶元？

一定是外行吧，对于蚀刻的重点不在于能不能做到5nm，7nm等等，而在于做出来的轮廓是否我们想要的。大家都说中微打进了台积电的5nm，要知道他只在上百道中run了一道，用他的和不用他的，对于台积电而言根本没差别。要说理论上中微的机台能不能做，那一定是可以，做得怎样？就不得而知了，因为没人愿意冒险去试。

这个问题逻辑不通，简单来说，你买个苹果11pro可以打电话发简讯么？

当然可以！

但是你买苹果11pro大部分价值不是用来打电话发简讯的

不可以的，印象中每种光刻机发射的光的波长是固定的，而且，每一代光刻机价格差别很大，即使可以，也没有fab厂嫌钱多，买5nm去投7nm。

是蚀刻机还是光刻机？

如果是蚀刻机，那答案是可以的，好比问用i5能否玩仙剑。但蚀刻的工艺有很多层，最后面的ALPAD和PAS图形尺寸极大，无论5，7还是28，都是用的低端设备不存在什么难度。

光刻机的话当然也可以，5nm涉及EUV技术，用来做7nm是没问题的，但考虑成本的话，7nm仍然采用浸入式曝光机与多层曝光技术的方式。

5nm是指CD尺寸刻蚀机台重要的评价标准之一是深宽比深度一般以A为单位计算，1nm=10A 具体你说的问题我没法回答，因为同样是5nm蚀刻不同的材料不同的层所要求都是不同的