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只要碳基晶元还是半导体，碳基晶元就同样需要光刻机或电子束蚀刻来固定电极。

建议去找那个告诉你碳基晶元不需要光刻机的人，然后告诉他耗子尾汁。

碳基晶元存在的意义是同等工艺下，性能大大超越硅基晶元，也就是说可以用14nm达到7nm甚至5nm水平(只是举例)，而越是高端工艺，越是国家的痛点。所以郭嘉才会押宝碳基晶元。

并不是为了避开光刻机！

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在我的理解，应该叫做「不需要高端光刻机」。

做电极、做布线这些都是需要光刻工艺的。碳基与硅基的主要区别在于：

硅基半导体这样，以mos管为例，需要极细微的光刻工艺去制作栅线条，即所谓的5nm、7nm工艺，所以才说EUV光刻机卡脖子。

碳基，用碳纳米管做「沟道」，实质上是操控碳纳米管，而不是在一个圆片上用高端光刻工艺制作线条。另外同等制程下，碳基的速度相比硅基也有质的提升，也等效于特征尺寸的进一步降低。

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因为人也是碳基的呀！

之前的晶元需要光刻，是因为晶元是Ge的或者是Si的，甚至还有III-V化合物的，而人是碳基的，这加工起来就麻烦了；本来掰饬一下就好的事情，不是一个基的，不能直接上手啊！

现在搞碳基晶元了，加工者被加工者大家是一个基的了，那干起活来基情澎湃、手到擒来，当然就用不上光刻机了。

另外，光刻机太反动了，既不是碳基的，也不是Ge基、Si基、III-V化合物基...的，怎么配来加工晶元呢？！

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因为你想像力比较丰富。

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优势是可以做的更小，毕竟碳原子更小

这也需要更强大的光刻技术

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谁说的不需要？你叫他来，我会让他耗子尾汁！

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