我们把阻止我们制造一项设备的问题称为壁垒。对于普通人，壁垒就是技术不行。但是对于实际要去解决问题的人来说，壁垒分为不同类型，有不同的解决方案，不同的困难。

常见的壁垒包括：专利壁垒，技术壁垒，管理壁垒等（都是我自己发明的词）。

首先专利壁垒。作为对于首先发明某项新事物，新技术的开拓者的奖励，我们实施了专利制度，可以在一定时期内让专利持有者独占专利的使用权。作为后来者，首先面对的就是先发者的专利壁垒。作为我国少有的拿的上台面的半导体设备公司，中微公司的团队主要来自于泛林，泛林在刻蚀机领域占据主导地位，以至于当中微公司的产品问世后泛林起诉了中微公司。原因之一在于，泛林认为新手不可能在不侵犯泛林专利的情况下做出刻蚀设备。最终中微公司凭借过硬的技术水平（目前为止），顺利过关。但是其他行业的公司就没有这么幸运以及实力，晋华半导体被禁止虽然说有中美竞争的因素，但是导火索就是和美光的专利纠纷。专利可以限制后来者，因为先发者会把最容易的路线乃至有效可行的路线都申请专利以限制后来者。先行者发明了圆轮子，后来者就只能用方轮子是很悲惨的。专利的另一个作用是提升积累的价值。在某个领域取得主导地位后，可以在原来专利的基础上进行改进，而后来者由于缺乏初代专利的使用权，即使有新想法也没有实用价值，进而丧失了开发动力。以丰田的混动系统为例，经历多代，即使初代专利过期，你会发现丰田的后几代专利都是沿著以前的技术路线改进的。作为后来者，你最初无法使用初代专利，那么也没有办法对初代专利进行改进，就形成了一代落后，代代落后的局面。光刻领域，同样有著很多专利壁垒在那里，必须想办法绕过去，并不容易。阿斯麦，蔡司，通快等公司有大量专利积累，如果要突破就要另辟蹊径，要么是天才方案，要么是别人废弃的方案，可天才哪有这么多呢？专利问题的例外是军工产品，只要抄的到，就是本领高。即便是我国，军工领域也可以申请保密专利，但是国外的专利我们不用管，也没人能管。消费品需要卖出去，就必须考虑专利壁垒。光刻机作为一个中间品，处于微妙的位置，一方面是商业用品，另一方面数量很少，放在即家里，即使专利侵权，又有谁知道呢？

第二个壁垒是技术壁垒。很多公司不用专利保护自己的技术秘密，如可口可以传说中的配方，放在保险柜里面，不知道真假。如果真申请专利，也早过期了。有些公司有大量的小技巧，就是我们常说的Know-how，知道怎么办。水放多点，还是面放多点，是用棍子搅拌，还是用搅拌机搅拌，总之任何一个细节都可能是决定成败的关键，不知道就只能抓瞎，知道了就是好简单。这些都是时间长久的技术积累。有些可以通过挖人来解决，有时候挖人犯法，人家也不来。同时有些物品是由技术高超的工人制作出来，传说中蔡司的金手指就是这样人，我国生产军工产品也需要部分技术高手手工做，有些工作手工就是比机械好。蔡司的打磨技工，可能历经数代，有祖传技巧，本人也努力工作，那么外行要超越也很困难。有些物品还要涉及更多的行业，如材料机械等。

管理壁垒。这个简单一些，因为这是决定一个产品是否有商业应用价值的因素。管理能力强的公司，可以提高效率。如果不做好管理，那么产品就没有竞争力。谷歌很强，苹果也很强，大家都知道，但是我要说富士康也很强，学习富士康的立讯精密也很强。不同行业有不同的特点，用对了才是高手。但是这一条，不适用光刻机，至少不适用于现在，因为我们要解决的是有无的问题，不是盈利问题。

回到最初的问题，ASML最新的光刻机要多长时间。在不考虑专利，不考虑盈利的情况下，问题主要还是在技术壁垒那里，即有很多小问题，不知道解决的方向在哪里，只能慢慢实验，训练有效技工。光刻机作为人造物的巅峰之一，设计很多领域。任何一个领域的缺失都会导致最终产品无法实用，这考察的是整个社会的工业水平，化工，机械，光学，再向前延伸的材料等，缺一个就不好用。

最后，半导体行业是一个整体，光刻机最多算是一把尖刀，还有很多其他设备行业，也很重要。我国的优势是人多，市场大，愿意持续投入，应该是可以有突破的，就像现在各设备分支基本都有点东西，这是火种。缺点是无法形成正向循环。我们战斗的不是荷兰，不是日本，不是美国，是整个世界，他们实力很强，人也很多。

要让我说个时间的话，我选择直接抄袭逆向的话，我猜5年内可以。因为很多Know-how的东西还是可以从机器材料用品等看出来，这个不像航空工业的东西，工作环境那么恶劣，主要是精密和技巧，其他的慢慢实验就好，但是实际商业活动中，没有拆解的机会，直接拆解参考还可以，侵权仿制这种不要脸行为，会让其他商业行为也面对脱钩。

你搞错了，人家对我们限制，不是怕你逆研发，而不让你拿来用。

而这个世界上有很多东西，你实力不到是无法逆研发的。

其实...最大的问题不是在光刻机上面，光刻机只是必要条件。最难克服的是制程中间很多 know how 的部分。原理上可能都不难，但是每个步骤在实际制作时的技巧和注意事项，就是很难逆向出来的。而不巧这一点正是TSMC防备很狡猾的。除非能把TSMC整个团队买下来，不然这部分基本就是一直在试错摸索...靠经验积累可以慢慢改进，但是这样在时间上总是落后...

这方面没有解决，研制出来的制程会一直面临离散性大和良率低的问题。

其实我一直觉得大家太关注光刻机，而忽略了其他机台！

虽然我没有任何证据，但我一直认为就是因为光刻机太重要，反而国内可能已经掌握了全部技术；这么说，不是臆想；

ASML曾经和XTAL打过官司，后者曾经抢了很多前者的客户，18年被美国判败诉，从此消失！很多不了解的人，认为是美国帮荷兰人惩罚了自己的公司；但事实是XTAL偷窃ASML的核心技术的是几个华裔，XTAL的大股东是三星和中国银行！虽然XTAL设立在美国，但背后是三星和中国银行。

但你觉得XTAL已经掌握的技术会莫名其名的消失么？不彻底翻脸前是知识产权，真翻脸了，可能不需要所谓的逆向！

但XTAL就算掌握的整个机台的技术，光源，镜头这些零部件大概率还是需要欧美厂商；毕竟AMSL这些关键部件也是外购的！

不可能。你不还得有原料嘛？

先花30年培养10万个博士。20个诺贝尔再说。不要以为就缺个光刻机。连个胶都要进口陶氏的。问题是现在还有人愿意读化学？不都去搞房地产了？

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