提及光刻機大家都很陌生，但是說起手機芯片卻有很多人很熟悉。EUV光刻機是目前最先進的芯片製造設備，要想做出功耗少性能優秀的芯片，EUV光刻機必不可少。以7nm芯片舉例，使用傳統的深紫外光刻機的7nm芯片，性能要比ASML的EUV光刻機製造的7nm芯片弱幾分。

　　根據供應鏈消息，去年中上旬，中芯國際預購了一臺EUV光刻機設備，價格爲1.2億美元。臺積電是ASML的EUV光刻機的最大買家。2018年臺積電訂購了ASML十臺光刻機設備，而英特爾、三星和格芯三家分別訂購了三臺、六臺和一臺。如果按照中芯國際的購價計算，臺積電搶10臺光刻機共花費12億美元，而作爲全球數一數二的芯片代工廠商，臺積電也已經憑藉EUV技術實現了芯片技術的革新。

　　2018年10月，臺積電已經實現了7nm EUV芯片的流片，根據官方介紹，相比7nm DUV技術，使用EUV光刻機製造的7nm芯片，晶體密度提升20%左右的同時，能有6%~12%的功耗降低。儘管2019年開年，臺積電的營收稍顯疲軟，但因爲7nm芯片工藝提升，致使臺積電的訂單大增。

　　根據媒體報道，目前AMD增加了7nm芯片的訂單，同時海思半導體也向臺積電增加了訂單數量。7nm芯片供不應求，臺積電方面也做好了充足的準備，官方表示，在2019年第三季度，臺積電將充分利用7nm工藝的產能，這也是扭轉臺積電開年營收疲軟的重要途徑。

　　作爲臺積電的合作伙伴，蘋果公司A13處理器也將使用7nm工藝，根據媒體報道，臺積電率先在A13處理器最重要的四層芯片上首次採用7nm EUV技術，因爲A13的需求較大，臺積電也會採取較爲保守的方法，在A13以後，臺積電或將在其他芯片上使用多達14芯片上使用EUV技術。但是A13芯片複雜程度要比A12高不少，同時芯片的性能也有大幅提升。

　　7nm芯片領域欣欣向榮，臺積電也在積極向5nm工藝做努力，4月6日，臺積電宣佈已經完成了5nm工藝芯片的技術設施設計，在晶體密度和芯片性能上均有提升。相比7nm工藝芯片，5nm工藝在邏輯密度和時鐘速度上均有提升，目前臺積電已經開始進行風險生產。

　　外媒報道，在2020年iPhone處理器上，或將使用臺積電的5nm工藝。蘋果公司全球首家大規模使用7nm處理器，因此這一消息的可信度非常高。國產崛起指日可待，在資金和設備上敢砸錢，2020年臺積電的5nm芯片非常有戲，爲國產點贊！