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當然ASML DUV基本全是ASML的……

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目前14nm主要都是用ASML DUV光刻機生產的；ASML最先進的EUV光刻機主要面向7nm加強版，5nm或者其他更先進位程。不過ASML也推出了更強大的DUV光刻機，號稱可以做5nm。

近幾年ASML在這個市場的佔有率已經超過2/3，其他兩個小弟（佳能和尼康）被打的很慘。高端應用全部被ASML 100%佔據，甚至中端應用基本也是ASML的。

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我們目前還是工藝不行,Intel目前14nm工藝用的也是ASML的193nm光刻機

但Intel能通過SADP+cut工藝造出來14nm++++++的5 6 7 8 9 10代酷睿

我們就不行.....

革命尚未成功,同志仍需努力啊

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是，不過不是euv，是193nm的immersion機型

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是的

買過

3月份的時候剛剛還到貨了一臺

但不是最先進的EUV，所以7nm還是做不了

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必須是，ASML在先進位程已經是一家獨大了！

老的製程還有尼康等選擇，先進位程只有ASML一種選擇

看圖片

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是的，是的，沒有第二家可供選擇了

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第一個問題，是，第二個問題，買過

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中芯國際130nm以下製程關鍵層次都是ASML做的

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是的，都是amsl的光刻機，只不過是上一代的。目前最新的叫euv，光源的波長13.5納米；咱們用的是上一代的duv，光源波長193納米；落後一代。用上一代很難完成14納米工藝。

其實，晶元製造不只是光刻機這一個難點問題。這領域技術壁壘太高，現在已經形成了各個環節的壁壘，壁壘之內的廠商相互依賴，相互參股，形成更緊密的壁壘，越來越固化，後來者就很難有彎道超車的機會。

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應該不是用光刻機吧。asml好像還沒有賣過14nm的光刻機給國內廠家。

晶元也不是一定要用光刻機做的，intel就不用。

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不用光刻機，用意念進行光刻

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臺積電 三星的是14nm用EUV了麼？ 中芯現在的設備完全可以做到intel 10nm和臺積電第一代7nm，技術不行就說技術不行別找客觀理由

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謝邀！14nm關鍵曝光層都是ASML的，全球也只有這家有這個能力的光刻機。

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必須買過。

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