半導體光電檢測器

  • 半導體的光電效應

基於對前面筆記中所寫到的有關於半導體的能帶分布、P-N結形成等內容的了解,這一次我們來看一看有關於半導體的光電效應是怎樣形成的、介紹光纖通信中常用的一些半導體光電檢測器及其相關的工作特性。

半導體的光電效應是把光變成電,那麼半導體材料是如何把光變成電的呢?

首先,我們要把光照射到半導體的P-N結上,從光子的角度上理解,若光子能量足夠大,則半導體材料中價帶的電子吸收光子的能量,價帶中的電子吸收光子能量,會向上躍遷,從價帶越過禁帶到達導帶,在導帶中出現光電子,在價帶中出現光空穴,光電子和光空穴是成對出現的,也稱為光電子-空穴對,又稱光生載流子(光生載流子是指由光照產生的,而且產生出來的電子空穴對是可以移動的)。

(圖中粉色線之上為導帶,綠色線之下為價帶,再往下是滿帶,因為滿帶中的電子不能移動,所以暫時不考慮,粉色線與綠色線之間的區域是禁帶,禁止電子在其中停留,但是可以上下穿越。這在我前面的筆記中都有過詳細描述)

出現光生載流子之後,光生載流子又是如何變成電的呢?

我們要在P-N結上外加負偏壓,也就是反向偏壓(即在P型半導體加負電,在N型半導體加正電),加上之後的反向偏壓屬於外加電場,會和P-N結固有的內建電場指向一致,換句話說,它在空間電荷區中,會受到內建電場和外加電場的共同作用,那麼這個時候,電場會變強。此時,光生載流子會在這兩個電場的共同作用下發生移動,從而在外電路中產生光電流,在電阻R上會有信號電壓產生。 從而實現光到電的變換。

值得注意的是,半導體材料的光電效要把光變成電時,我們強調:這個光要足夠強。

那麼光到底得強到什麼程度呢?

實際上,只有當光子能量hf≥Eg時,才能使材料產生光生載流子。

fgeqfrac{E_{g}}{h} f=frac{E_{g}}{h} ——截止頻率

lambda_{c}=frac{c}{f_{c}}=frac{h_{c}}{E_{g}} ——截止波長

也就是說,照射到半導體材料的光波波長入必須小於截止波長,才能使這種材料產生光生載流子。半導體材料光電效應的產生不是任意的,而是對於照射過來的光的波長或者頻率有要求的,只有滿足了波長或者是頻率的要求,它才能夠產生光生載流子。產生光生載流子作為第一步,這個時候再將P-N結外加反向偏壓之後,就可以得到光電流了。

  • 光纖通信中常用的半導體光電檢測器

每一個器件的產生都是為了達到某一項性能指標的要求,以達到人們想要的更好的效果,光電檢測器同樣也不例外。對於光電效應,通過研究發現:在P-N結中,由於有內建電場的作用(內建電場使耗盡層的能帶形成一個「斜坡」-位壘),光電子和光空穴的運動速度加快,從而使光電流快速地跟著光信號變化,即響應速度快。也就是說,耗盡層的寬度越寬,光電檢測器的響應速度就會越快。

然而在耗盡層之外產生的光電子和光空穴,由於沒有內建電場的加速作用,運動速度慢,因而響應速度低,而且容易發生複合,不能移動,導致光電轉換效率低。而正因為在耗盡層中有內建電場的共同作用,響應速度快,轉換效率高,所以我們也是希望耗盡層越寬越好。

總而言之,為了改善光電檢測器的響應速度和轉換效率,應適當地加大耗盡層的寬度。

為了加大耗盡層的寬度,以增大響應速度、轉換效率,於是出現了PIN光電二極體。

1、PIN光電二極體

PIN光電二極體的結構及其工作原理

PIN光電二極體是指在P型材料和N型材料之間加一層輕摻雜的N型材料,稱為I層。

I層是輕摻雜的(N型半導體電子數多,輕摻雜表示電子數低一些),故電子濃度低,經擴散後可形成一個很寬的耗盡層,這種結構的光電二極體稱為PIN光電二極體。

PIN光電二極體的結構圖

PIN光電二極體可以實現光到電的變換,但是輸出的光電流比較微弱,當然我們可以後面經過多級放大,但是我們知道放大器在放大信號的同時本身會引入雜訊,不僅如此,它在放大之前的信號的時候它也會把之前的雜訊一同放大,如果PIN光電二極體輸出的電流非常微弱,而且雜訊也比較強的話,我們就希望能夠有這樣的一個二極體,它能夠在二極體內部輸出的光電流本身就比較強,這樣的二極體就是APD雪崩光電二極體。

2、APD雪崩光電二極體

APD雪崩光電二極體不僅可以實現光到電的變換,還可以對產生的光電流具有放大作用。

(1)雪崩光電二極體的雪崩倍增效應

仍是P-N結形式,只是在二極體的P-N結上加反向電壓(一般為幾十伏或幾百伏),在結區形成一個強電場;

在高場區內光生載流子被強電場加速獲得高的動能,與晶格的原子發生碰撞,使價帶的電子得到能量,越過禁帶到導帶,產生了新的電子-空穴對,即新的光生載流子;

新產生的電子-空穴對在強電場中又被加速,再次碰撞,又激發出新的電子-空穴對…,如此循環下去,像雪崩一樣地發展,從而使光電流在二極體內部獲得了倍增。

(2) 雪崩光電二極體的結構及其工作原理

能帶結構,N+型重摻雜,P型一般摻雜,I(P)層輕摻雜的P型,P+型重摻雜。

我們說P型是空穴多,輕摻雜的I(P)層則表示的是空穴雖然多但是濃度低,而P+表示重摻雜的含義是不僅是空穴多而且它的濃度還非常高。

雪崩光電二極體的P型就是由這3部分組成。

工作原理:

光子從P+層射入,進入I層後,在這裡材料吸收了光能併產生了初級電子-空穴對。這時,光電子在I層被耗盡層的較弱的電場加速,移向P-N結。當光電子運動到高場區時,受到強電場的加速作用,出現雪崩碰撞效應,最後,獲得雪崩倍增後的光電子到達N+層,空穴被P+層吸收。

從工作原理中可以看出,雪崩光電二極體的耗盡層從結區一直拉通到I層與P+層相接的範圍內,範圍比較寬。在整個拉通的耗盡層範圍內出現了兩個電場:較低電場在I層區域中,主要是使光照產生的初級電子-空穴對在裡面被加速,推進到高電場區;而高電場主要存在於P-N結區中,初級電子-空穴對在高場區中產生雪崩效應。這種電場分布有利於降低工作電壓。

雪崩光電二極體的結構圖

  • 光電檢測器的工作特性

1、 響應度R0和量子效率η

這兩個特性都是描述光電轉換能力的一種物理量

響應度是從宏觀的角度

R0=IP/P0=光電檢測器的平均輸出電流/光電檢測器的平均輸入功率(A/W)

量子效率是從微觀的角度

η=(光生電子-空穴對數)/入射光子數

兩個特性之間的關係:

光生電子-空穴對數= IP/e ,e為電子電荷量

入射光子數= P0/hf,hf為一個光子的能量

Rightarroweta=frac{frac{I_{p}}{e}}{frac{P_{0}}{hf}}=frac{I_{p}}{P_{0}}cdotfrac{hf}{e}=R_{0}(frac{hf}{e})

eta=R_{0}(frac{hf}{e})

R_{0}=frac{e}{hf}eta

響應度 R_{0} 和量子效率 eta 與入射光波頻率有關。

2、 響應時間

響應時間是指半導體光電二極體產生的光電流跟隨入射光信號變化快慢的狀態。

響應時間也可以理解為反應速度。我們希望響應時間越短越好。

在半導體光電二極體中,光生載流子的「運輸」與複合都需要一定的時間,器件的結電容和外電路的負載電阻也會影響響應時間。

響應時間是從時域角度看器件。而如果從頻域的角度看,短的響應時間意味著這個器件的帶寬寬。

3、 暗電流ID

在理想條件下,當沒有光照射時,光電檢測器應無光電流輸出。而實際中,由於熱激勵、宇宙射線或放射性物質的激勵,即使是在無光情況下,光電檢測器仍有電流輸出,這種電流就稱為暗電流。

暗電流ID越小越好。

暗電流ID具有隨機性,會引入雜訊。

4、 雪崩倍增因子G

G=IM/IP=有雪崩倍增時光電流的平均值/無雪崩倍增時光電流的平均值

比值越高表示雪崩倍增效應所帶來的光電流的放大作用越強。

APD:40~100

PIN:1,無雪崩倍增效應

5、 倍增雜訊和過剩雜訊係數F(G)

倍增雜訊:雪崩倍增具有隨機性,這種隨機性的電流起伏會引入附加雜訊,一般稱為倍增雜訊。

倍增雜訊用過剩雜訊係數F(G)來描述。

F(G)=frac{(g^{2})}{(g)^{2}}=frac{(g^{2})}{G^{2}}

g是每個初始電子-空穴對因雪崩效應產生二次電子-空穴對的隨機數

(g)是g的平均值,因此(g)=G

g^{2} )是產生的二次電子數平方再取平均值

(g)^{2} 是產生的二次電子數平均值再平方

如果每次增益都相同,即是理想倍增狀態,此時F(G)=1

F(G)實際上表示雪崩光電二極體實際雜訊超過理想倍增雜訊的倍數。


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