晶元應該可以考慮複製的方法,用已刻的晶元電路導入電流,然後用電流產生的某種特性去觸發覆蓋在上面的發光物,再用要感光的矽片覆蓋在其上,由於是固體接觸,光並不會發散開,只能形成與原來母晶元的寬度。我認為這種方法可行,繞開需要大量高精光刻機生產過程,只需要用其做模板就可以了


晶元本身是一層一層疊加的,你這個是不是也要一層一層感應呢?嗯,有點掩膜版的意思了,再加上三d列印吧,cvd,cmp的味兒飄過來了,離子注入不能省吧,這樣看上去,跟傳統方法也沒區別了


親,建議深入了解一下集成電路工藝原理


洗洗睡吧 夢裡什麼都能實現!

我們想過的,大佬都已經想過了!大佬們正在艱難的科研攻破難關!


嘆氣……明白你的急切,但開腦洞將問題簡單化無法解決問題,這是對科學的不尊重也是對正在攻關的科研人員的不尊重。


哈哈,首先肯定下積極主動的思考,讓我想起了三傻里那個為什麼太空中不用鉛筆的情節,沒有貶義,影片里提出想法的也是正面男一號。

你的方案很有趣,隨便問幾個問題:

  1. 模板晶元怎麼來呢?
  2. 用電流來產生光,是什麼光?多少頻率,應該不會是很窄的單色,光通過三菱鏡會變成彩虹,這是為什麼呢?
  3. 接觸式曝光,在早期光刻技術里就是這麼做的,但撕個膠帶也會有黏連,要真接觸了,defect(就是缺陷,小破損)會超級超級多,抱歉你的晶元每塊都是壞的

其實光刻的原理並不複雜,但小到一定程度就很難搞,簡單說幾個我所知道的困難:

  1. 光源的單色性:那個尺寸的誤差要求,導致了對頻率控制也要到一個很窄的範圍
  2. 機械移動的精度:矽片越來越大,曝光不是一次曝完整片矽片的,所以鏡頭需要移動,機械移動同樣也要達到相似的精度範圍
  3. 化學材料的均勻性:讓你在吐司上塗巧克力醬,你能塗的多均勻呢?那如果是塊老大老大的wafer,膠的厚度均勻性要求還是小數點後面好多個零的情況呢?

打住了,確實是看著太有趣了,忍不住來回復了下。


親,了解一下光刻時候需要的激光能級你就會發現你的這個想法有點可愛


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