只要碳基晶元還是半導體,碳基晶元就同樣需要光刻機或電子束蝕刻來固定電極。

建議去找那個告訴你碳基晶元不需要光刻機的人,然後告訴他耗子尾汁。

碳基晶元存在的意義是同等工藝下,性能大大超越硅基晶元,也就是說可以用14nm達到7nm甚至5nm水平(只是舉例),而越是高端工藝,越是國家的痛點。所以郭嘉才會押寶碳基晶元。

並不是為了避開光刻機!


在我的理解,應該叫做「不需要高端光刻機」。

做電極、做布線這些都是需要光刻工藝的。碳基與硅基的主要區別在於:

硅基半導體這樣,以mos管為例,需要極細微的光刻工藝去製作柵線條,即所謂的5nm、7nm工藝,所以才說EUV光刻機卡脖子。

碳基,用碳納米管做「溝道」,實質上是操控碳納米管,而不是在一個圓片上用高端光刻工藝製作線條。另外同等製程下,碳基的速度相比硅基也有質的提升,也等效於特徵尺寸的進一步降低。


因為人也是碳基的呀!

之前的晶元需要光刻,是因為晶元是Ge的或者是Si的,甚至還有III-V化合物的,而人是碳基的,這加工起來就麻煩了;本來掰飭一下就好的事情,不是一個基的,不能直接上手啊!

現在搞碳基晶元了,加工者被加工者大家是一個基的了,那干起活來基情澎湃、手到擒來,當然就用不上光刻機了。

另外,光刻機太反動了,既不是碳基的,也不是Ge基、Si基、III-V化合物基...的,怎麼配來加工晶元呢?!


因為你想像力比較豐富。


優勢是可以做的更小,畢竟碳原子更小

這也需要更強大的光刻技術


誰說的不需要?你叫他來,我會讓他耗子尾汁!


推薦閱讀:
相关文章