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没什么实质影响，仅仅是先进工艺的研发会开始，但光刻机=产品？？这种想法或者观点其实是非常外行的。不过很可惜，知乎上很多关于晶元和光刻机的问答都充斥著这种思路，好像拥有了光刻机就拥有了技术。

半导体高端设备掌握在西方手里，先进工艺目前以台积电和三星为领军，大陆的半导体厂实际上是在抄作业（没错，所谓的中芯，华虹，华力），很多情况下甚至连作业答案都吃不透。同样的设备，同样的产品，跑出来的良率差距会差很大。（曾经在28hk节点，华为在中芯和台积电同时下了一个产品，台积电的第一批wafer 跑出来良率超过90%，中芯很可悲的是0%，这还是中芯的28宣称已然量产的情况下）

如果我们只谈光刻，一台先进的光刻机带给你的只是工具，工艺运用仍然是靠自身的修炼和积累的。好比打篮球，你一个业余的被职业的打爆，你能说是篮球鞋的事？

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朴素情感下的回答，应该是比现在的情况要好一些，但是除了光刻机，我们的人才储备，配套的材料等等都是短板。这一下子要补的窟窿也太多了。很难补得过来吧。

悲观一点儿，跟现在差不多。我们现在被人追著打，是因为我们有实打实的解决不了的痛点。这不是一个光刻机就能解决的。最终还得有我们有，别人没有的东西。那个时候腰杆子才真是有可能会直起来。

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只是有机会往5nm7nm努力，仅此而已

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asml做整机，里面的部件来自不同国家不同公司，中国要做到，一定没法全部自给，和大飞机一样，如果做到了就做到了，还有别的东西卡脖子，技术上的比拼没有终点，踏实努力吧，技术上的松懈就是把未来交给别人。

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至少不会被垄断

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出口会需要许可证

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也不会怎样。你有了最好的画笔也不一定能创作出优秀的画作。给你一把好枪你也不一定能打中目标。流片志成是一门高深的手艺。光刻机只是一个工具。台积电三星突破7纳米可没用到次世代光刻机。我国这方面距离先进水平还是有很大差距。目前的目标也并不是突破极限而是提高良品率降低成本扩大市场范围。饭要一口一口吃。

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光刻机只是晶元产业其中一环，目前的确是对我们整个晶元产业制约最重要的一环。原因是因为光刻机单体价格巨大，国内企业如无定向支持绝无能力可以自行开发。目前技术环节差距较大，不单单是在光刻精度上有几条鸿沟暂时无法跨越，晶元质量、一致性上差距明显。

当然后续如果在钱和人满足情况可以买到或者可以做出来。 但是晶元行业的设计规划基本垄断在美国、欧洲和日本只占很小一部分，这是美国作为行业制定者的优势，目前国内依然无法满足基本的需求。

所以就算是台积电有光刻机能力，依然被美国握在手里，不如也不会得罪他们第二大客户了。

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